エーエムアール株式会社〒152-0031 東京都目黒区中根2-13-18 Tel 03-5731-2281/Fax 03-5731-2283http://www.amr-inc.co.jp/
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SunCollectMALDIイメージング用スプレイヤー
SunChrom
装置特徴
高い均一性のあるマトリックス塗布
オプション組織上での酵素消化システム SunDigest
ウォーターリザーバーにより、消化のための湿度を確保
湿度の飽和状態を迅速に達成し、98%~100%の湿度をキープ
スライドグラスにのせた組織上での酵素消化(スライドは 2×5 枚)
スライドグラス
酵素とマトリックスの溶液も、同様に扱うことが可能
マルチレイヤー技術により、ターゲット化合物の高い抽出効率と高い空間分解能を達成
マトリックスのレイヤーは分単位で複数重ねていくことが可能
装置のパラメータは、サンプルに応じて容易に最適化可能
Base Temp. Cover Temp. Inner Temp. HumidityTime
06:3006:0005:3005:0004:3004:0003:3003:0002:3002:0001:3001:0000:30
Tem
pera
ture
(°C
)
46
45
44
43
42
41
40
39
38
37
36
35
34
33
32
Hum
idity (%)
104
102
100
98
96
94
92
90
88
86
84
82
80
78
76
74
72
Base Temp. = Temperature of the bo�om plateCover Temp. = Temperature of the cover lidInner Temp. = Temperature right next to the slides
マトリックスを塗布する上での難点
溶媒揮発時間
遅い早い
ターゲット化合物が移動しやすい
マトリックスの結晶が大きくなる
抽出効率が上がる○××空間分解能が上がる
マトリックスの結晶が小さくなる
抽出効率が下がる
○○
組織ターゲット化合物マトリックス溶媒
これらの因子も影響
SunCollectの特徴
以下のパラメータを操作可能 マトリックス塗布の最適化が可能
スプレーヤーの組織サンプルからの高さ
スプレーヤーの移動速度
マトリックス各層ごとの、スプレーヤー移動方向
スプレーする列間の距離
マトリックスの流速
1
2
3
4
5 1
2
3
マトリックス塗布面を上から見た図 スプレーヤーと組織接地面
Layer 1 Layer 2
5
4
SunCollectによるマトリックス塗布後の結晶
HCCAが130-140 nmで均一に結晶化している。SunCollectによるマトリックス塗布が、均一で、小さな結晶を作成することがわかる。
■使用可能マトリックス DHB CHCA SA 9-AA Etc. 含水溶媒でも可
×
10 μm
2 μm
SunCollectによるマトリックス塗布の均一性を示す実験
シリンジB
シリンジA
DHBマトリックスAngiotensin Ⅰ
DHBマトリックスAngiotensin Ⅱ
スライドグラス 1000 1500 2000m/z
Intensity
0
10
20
30
40
50
60
70
80
90
100
Ang Ⅱ
1046.5416
Ang Ⅰ
1296.6847
10 20 30 40 50 60 70 80 90Spot No.
0.6
0.8
1.0
1.2
1.4
Ratio Ang Ⅱ/ Ang Ⅰ
異なるペプチド(Angiotensin I、II)を予めミックスしたマトリックスを、それぞれ3層ずつ塗布
Ang ⅠとAng Ⅱの強度はほぼ等しい
10μl/min
10μl/min
塗布されたマトリックス上のあらゆすスポットにおいて、Ang ⅠとAng Ⅱの比率は等しい
SunCollect前処理による指紋の分析
直後に
4時間後に
24時間後に
MALDI MSコカイン(分子量303.35)を指に付着させる
コカインを付着させた指をステンレス板へつける
そのステンレス版にSunCollectでマトリックス塗布
コカイン由来のピーク
コカイン付着直後の指紋サンプル
コカイン付着から4時間後の指紋サンプル
コカイン付着から24時間後の指紋サンプル
24時間経過後の指紋サンプルも、MALDI イメージングでコカインが指紋上に同定できている。
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