Microelectrónica Aula 4 - UMinhodei-s1.dei.uminho.pt/pessoas/pmendes/microelectronica/... · 2005....
Transcript of Microelectrónica Aula 4 - UMinhodei-s1.dei.uminho.pt/pessoas/pmendes/microelectronica/... · 2005....
Microelectrónica – 4. 1
Aula 4
Licenciatura em Engenharia Biomédica
- RAMO II: Electrónica Médica-
Paulo Mendes
http://dei-s1.dei.uminho.pt/pessoas/pmendes
2005/2006
Microelectrónica
Microelectrónica – 4. 2
Física dos semicondutores
• A teoria das bandas nos semicondutores• semicondutores do grupo IV,
• semicondutores do grupo III-V, • electrões e lacunas, • impurezas dadoras e receptoras,
• semicondutores íntrinsecos e extrínsecos,• dopagem de semicondutores,
• energia de Fermi,• condutividade e mobilidade eléctrica nos semicondutores,
• electrões quentes,• efeito de Gunn,
• efeito de Hall, • semicondutores de gap directo e indirecto.
Microelectrónica – 4. 3
Semicondutores Dopados (Extrínsecos)• Conjunto de átomos que partilham os electrões das
camadas exteriores formam uma estrutura regular –cristal
• 1 átomo de impurezas em 106
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Tipo n Tipo p
Microelectrónica – 4. 4
Electrões na banda de condução
∫=condução de banda
)()( dEEpESn
S(E) – densidade de estados disponíveis por unidade de volumep(E) – probabilidade de ocupação por um electrão do estado de energia E
))(
exp(2
22
3
2
*
TKEETmK
nB
FgeB −−
=
hπ
Para E-EF >> KBT
Microelectrónica – 4. 5
Lacunas na banda de valência
)exp(2
22
3
2
*
TKETmK
pB
FhB −
=
hπ
1-p(E) – probabilidade de não ocupação por um electrão do estado de energia E
Microelectrónica – 4. 6
Massa efectiva do electrão• Electrão no cristal e na presença de E
2
2
2*
dk
Edme
h= Massa efectiva do electrãoElectrão livre não interage com a rede e m*=me
Massa efectiva do electrão resulta da interacção com arede devido a campos eléctricos
h = 6,626x10-34 J.sme = 9,109x10-31 KgKB = 8,617x10-5 eV.K-1
pi
h
2=h
Microelectrónica – 4. 7
Energia de Fermi• O nível de Fermi, EF, é uma medida da probabilidade de ocupação de
um estado
• Estados abaixo do nível de Fermi tendem a ser ocupados, enquanto que os estados acima tendem a estar desocupados
• Com o aumento da temperatura, alguns estados abaixo do nível de Fermi passam a estar desocupados, dado que alguns electrões se movem para estados acima do nível de Fermi
• Estados no nível de Fermi têm 50-50 de possibilidades de serem ocupados.
• No silício intrínseco, #electrões = #lacunas => nível de Fermi está ao situado a meio entre a banda de valência e de condução.
• A esse nível de Fermi chama-se nível intríseco, EFi
Microelectrónica – 4. 8
Energia de Fermi
• Distribuição dos electrões e lacunas pelos estados de energia permitidos depende do nível de Fermi
• A posição do nível de Fermi ajusta-se para manter a neutralidade eléctrica do material dopado
• Semicondutor extrínseco• Electrões+lacunas+átomos ionizados das impurezas
+− +=+ NdpNan
Na- - concentração dos átomos aceitadores ionizadosNd+ - concentração dos átomos dadores ionizados
Microelectrónica – 4. 9
Energia de Fermi - semicondutores intrínsecos
Aumentando a temperatura, um número cada vez maior de electrões é excitado da Banda de Valência (BV) para a Banda de Condução (BC).
n cresce exponencialmente com T.
• Energia de Fermi
Para KBT<<Eg, EFi=0.5 Εg
+=m
mlnK4
3E
2
1E *
e
*h
BgFi
Na realidade m*h>m*
e
Microelectrónica – 4. 10
SemicondutoresAs propriedades eléctricas dos semicondutores podem ser alteradas pela
presença de impurezas
Semicondutores extrínsecos - as impurezas fornecem a maior parte dos transportadores - n diferente de p
Semicondutores intrínsecos – n i=p i
( ) )2exp(2
2 43
**2
3
2 TKE
mmTK
pnB
ghe
Bii
−
==hπ
np é independente do nível de Fermi, logo da concentração de impurezassó depende das propriedades do material intríseco
Microelectrónica – 4. 11
Semicondutores intrínsecos e extrínsecosComo n cresce exponencialmente com T podemos afirmar que “a altas
temperaturas todos os semicondutores são intrínsecos”
Dopagem de semicondutoresFósforo – grupo V, dopagem do tipo n
Boro – grupo III, dopagem do tipo pSe Nd>>Na, prevalecem as impurezas dadoras e n=Nd ou:
−=TK
EEexpnnB
FiFi
Microelectrónica – 4. 12
Semicondutores extrínsecosVariando o tipo de dopagem, com T constante de modo a que aumente a
concentração de electrões (n) tem de diminuir a de lacunas (p) e vice-versa.
Se Na >> Nd a dopagem predominante é de aceitadores e p = Na ou
−=TK
EEexpppB
FFii
Microelectrónica – 4. 13
Semicondutores intrínsecos e extrínsecos
• Se houver impurezas dadoras, Nd, e aceitadoras, Na, a região intrínseca é dada por:• ni >> (Nd-Na)
• Como n aumenta com a temperatura, a altas temperaturas todos os semicondutores são intrínsecos.
Microelectrónica – 4. 14
Condutividade e Mobilidade•Condutividade eléctrica num semicondutor
τe diminui em geral à medida que aumenta T (pois aumenta com o número de colisões)
•Mobilidade num semicondutoré a razão entre a velocidade dos electrões, ve, e a intensidade do campo eléctrico aplicado E. É a medida da facilidade com que o electrão se move na presença de um E.
m
en*e
e2 τ=σ
Tempo de colisão
Microelectrónica – 4. 15
Electrões QuentesComportamento de um semicondutor na presença de um campo eléctrico:
E<103: o comportamento segue a Lei de Ohm J=σE.E>103: observam-se desvios em relação à lei de Ohm
E>104: a corrente atinge um valor de saturação e para valores mais elevados atinge o breakdown eléctrico.
As equações clássicas são válidas apenas se as amplitudes dos campos aplicados E e B satisfazem certas condições.
E (V/m)
v(cm/s)
107
106
102 103 104
diminuição do declive da curva
Microelectrónica – 4. 16
Electrões quentes e efeito de GunnNa presença de um campo eléctrico forte, E, cada electrão recebe
energia ao ser acelerado pelo campo, entre 2 colisões, e cede energia à rede (sob a forma de calor). Admite-se que a temperatura dos electrões é maior que a da rede (daí o termo “electrões quentes”). Os electrões quentes podem estar a uma temperatura superior à da rede em 100 ºK ou mais se E for maior. Na presença de E muito elevados, os electrões dissipam a energia recebida do campo, sob a forma de fonões ópticos cedidos à rede. Em situações normais cedem fonões acústicos de menor energia.
•Efeito de GunnDescoberto em 1963 ao medir as correntes devida a electrões
quentes no AsGaValores típicos para o AsGa, Eo=3KV/cm e uma espessura da
amostra de 2.5 mm.
Microelectrónica – 4. 17
Efeito Gunn
E< Eo: variação linear (Lei de Ohm).E> Eo : flutuações de J, oscilações coerentes no tempo.
ν (frequência das oscilações) ~5GHzJ diminui quando E cresceEste fenómeno é usado para gerar microondas.
E
J Condutividade diferencial negativa
Eo
Microelectrónica – 4. 18
Efeito de Hall nos semicondutoresEx-campo aplicado que origina a corrente Jx
Bz-campo magnético aplicado
Vx
VH
Bz
EH
zy
x
t
F = q(E+v x B)Força de Lorentz
Microelectrónica – 4. 19
Efeito de Hall nos semicondutores• Temos 2 campos eléctricos Ex e EH
• Constante de Hall, RH
Considerando:
( )he
h
H
pne
npR 2
2e
µ+µµ−µ
=
BJ
ERzx
HH =
peBJE
neBJE
0E)pene(EpeEneJ
EpeEneJJJ
zhhx
zeex
hey
hex
Hhexhxe
he
−=
=
=µ+µ+µ+µ=µ+µ=+=
Microelectrónica – 4. 20
Efeito de Hall nos semicondutores
• Se n=0 (semicondutor do tipo p)RH=1/pe (>0)
• Se p=0 (semicondutor do tipo n)RH=-1/ne (<0)
Os valores de RH dependem da concentração (n e p) e das mobilidadesdos transportadores.Os valores de RH são medidos experimentalmente para:
1-obter informação sobre as concentrações n e p quando há só um tipo de transportadores.
2-obter informação sobre a mobilidade µe ou µh
Microelectrónica – 4. 21
Semicondutores de gap directo e indirecto
• A transição de electrões da BV
para a BC dá-se por absorção de um ou
mais fotões. A frequência, ν, do fotãotem de ser ν>∆E/h, o processo decorrecom conservação da energia e daquantidade de movimento.
Energia libertada num fonão ou num fotão
Microelectrónica – 4. 22
Semicondutores de gap directo e indirecto
•Semicondutor de gap directoAs transições são verticais (sem variação de k) entre a BV e a BC (ex: GaAs)
•Semicondutor de gap indirectoO fundo da BC não se encontra directamente por baixo do topo da BV. A transição ocorre em 2 fases: o electrão absorve um fotão e um fonão; o fotão fornece a energia necessária e o fonão a quantidade de movimento para a mudança de direcção (ex: Si).
Microelectrónica – 4. 23