Inżynieria Chemiczna i Procesowa
description
Transcript of Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Procesy Mechaniczne. FILTRACJA
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Jedną z podstawowych metod separacji zawiesin ciała stałego jest FILTRACJA
Polega ona na przepływie przesączu przez warstwę porowatego osadu
zawiesina
osadprzegroda filtracyjna
klarowna ciecz
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Podczas filtracji przepływ przesączu przez warstwę osadu ma z reguły charakterlaminarny. Jest więc aktualne równanie przepuszczalności wyprowadzone napoprzednim wykładzie:
LpK
u
przepuszczalność
grubość warstwy filtracyjnejprędkość pozorna
lepkość przesączu
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Mnożąc u przez powierzchnię warstwy filtrującej F otrzymamy szybkość filtracji [m3/s]:
pLFK
dtdV
FuQ
objętość przesączu
stosunek rK
określany jest mianem oporu właściwego.
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Stąd analogicznie do pojęć elektrotechnicznych opór filtracyjny można zdefiniowaćnastępująco:
FL
KFL
rR
Wykorzystując tą definicję równanie szybkości filtracji przyjmuje postać:
Rp
dtdV analogiczne do prawa Ohma
szybkość filtracji jest więc proporcjonalna do spadku ciśnienia w warstwie filtracyjnej
pLFK
dtdV
FuQ
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Kr
opór właściwy osadu a więc i opór całkowity jest proporcjonalny do lepkości przesączu. Stąd podwyższenie temperatury procesu będziepowodować redukcję wartości oporu a co za tym idzie przyspieszenieprzebiegu filtracji.
Opór filtracyjny spowodowany jest warstwą materiału ziarnistego i tkaniną filtracyjną(podkładem) utrzymującą tę warstwę.
Dla tkaniny jej grubość L jest stała, a jej opór R da się wyznaczyć z zależności:
FR tt
stała charakterystyczna dla tkaniny określana doświadczalnie
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Opory w przegrodzie filtracyjnej występują szeregowo ( tkaniny + osadu ) . Wówczas:
o
o
t
t
R
p
R
p
dtdV
spadek ciśnienia w osadziespadek ciśnienia w tkaninie
czyli całkowity spadek ciśnienia wyniesie: ot ppp
czyli:
Rp
RRp
dtdV
to
całkowity opór układu
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Filtracja przy stałej grubości warstwy
Rozcieńczone zawiesiny filtruje się przez warstwy piasku lub porowate masy ceramiczne
filtr piaskowy
Grubość warstwy filtrującej jest stała.
W początkowym etapie procesu, gdy porowatość złożajest jeszcze duża opór filtracyjny R można przyjąć jakostały.
Dla stałego ciśnienia P można wyznaczyć czas t potrzebnydo uzyskania objętości V przesączu
Rp
dtdV
tV
dtRp
dV00
pRV
t
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Jeżeli warstwa filtrująca L jest wysoka wówczas szybkość przepływu przesączu będzie równa:
RLH
dtdV
dtLHRdV
dla filtra okresowego w różniczkowym przedzialeczasu dt poziom cieczy opadnie o dH
dHFdV powierzchnia warstwy filtracyjnej
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
dtLHRdV
dHFdV
dtLH
dHRF
tH
dtLH
dHRF
00
LLHRF
t ln
czas opadania wody do powierzchni osadu
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Własności osadu
Najczęściej podczas filtracji mamy do czynienia z przypadkiem gdy warstwą filtracyjnąjest własny osad, a tkanina filtracyjna odgrywa tylko rolę mechanicznego podkładu.
W miarę trwania procesu grubość warstwy osadu rosną a więc rośnie i opór filtracyjny.
Ciśnienie cieczy podczas przepływu przezosad spada od wartości P1 do P2.
W przekroju gdzie ciśnienie cieczy spadado P, na ziarna osadu działa ciśnienie lub „zgniot”:
PPp 1
Największy zgniot osadu ma miejsce tuż napowierzchni tkaniny filtracyjnej, a na powierzchni osadu od strony cieczy spada on do zera.
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Pod wpływem „zgniotu” p osad przybiera określoną porowatość. Przy tkaninie będziebardziej zbity, a na powierzchni bardziej luźny (bardziej porowaty). Przepuszczalnośćosadu może być przedstawiona jako funkcja „zgniotu”:
spb
K
gdzie b i s to stałe dla danego materiału.
Wykładnik s jest współczynnikiem ściśliwościosadu.
W przypadku granicznym s=0, mamy osadnieściśliwy, który ma jednakową porowatośćna całej swej grubości.
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Opór osadu ściśliwego
Stosownie do definicji oporu właściwego oraz wyrażenia
spbK
r
spb
K
opór właściwy osadu ściśliwego można przedstawić następująco:
Stąd dla różniczkowej warstwy osadu o grubości dL i powierzchni F opór filtracyjnywyniesie:
dLFbp
FdL
rdRs
FL
rR
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Szybkość filtracji przez tę warstwę różniczkową jest taka sama jak i przez całą grubośćosadu (bilans masy):
0
0
R
P
dRdP
dtdV
spadek ciśnienia w osadzie
opór całej warstwy osadu
Z zależności na „zgniot” osadu: PPp 1wynika że spadek ciśnienia cieczy wosadzie dP jest równy wartości zgniotuw osadzie dp.
Po podstawieniu tego do równania na szybkość filtracji, otrzymujemy równanie różniczkowe:
dLR
P
pdpbFs
0
0
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Można to równanie scałkować:
dLRP
dppbF L
Ps
0 0
00
0
powierzchnia osadu od strony tkaniny„zgniot” maksymalny, grubość 0
powierzchnia osadu od strony cieczy„zgniot” =0 , grubość maksymalna L
FL
Pbs
R s 00
1 Całkowity opór osadu
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Równanie szybkości filtracji przy zmiennej grubości osadu:
Jeżeli powierzchnia filtrująca wynosi F, to objętość osadu wynosi F*L, a przyjego średniej porowatości ε masa ciała stałego w osadzie wyniesie:
sLFW 1gęstość ciała stałego
Masa tego ciała jest związana z objętością przesączu V przez stężenie (dla niezbyt stężonej zawiesiny) :
VCW w
FL
Pbs
R s 00
1
uwzględniając to w równaniu na opór filtracyjny:
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
otrzymamy:
FL
Pbs
R s 00
1
sw FLVCW 1
s
w
F
VCL
1
200 11
FV
CPb
sR w
s
s
Dla osadu o grubości znacznie większej od grubości tkaniny filtracyjnej, można przyjąćΔP0 równe ΔP spadkowi ciśnienia w osadzie i tkaninie.
Opór osadu w funkcji objętości uzyskanego przesączu:
20 FV
CPaR ws
stała a
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
FR tt
Opór tkaniny filtracyjnej :
20 FV
CPaR ws Opór osadu :
FFV
CPa
PRRP
dtdV
twsto
2
Szybkość filtracji :
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
tws
FV
CPa
PdtF
dV
Jest to ogólne równanie różniczkowe szybkości filtracji z jednostki powierzchnifiltracyjnej w zależności od stosowanego ciśnienia filtracyjnego ΔP i od objętościprzesączu uzyskanej do danego momentu.
Wyróżniamy dwa sposoby prowadzenia procesu filtracji:
Filtracja pod stałym ciśnieniem Filtracja ze stałą szybkością
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Filtracja pod stałym ciśnieniem:
Stałe ciśnienie może być otrzymane za pomocą pompy o odpowiedniej charakterystycelub przez zastosowanie zbiornika ciśnieniowego dla zawiesiny surowej. Dla tegoprzypadku ΔP = const można łatwo scałkować ostatnie równanie otrzymując:
PF
VPCa
FVt t
sw 12
Wprowadźmy następujące wyrażenia :
w
s
CaFP
K212
ws
t
CPa
FC
są to „stałe filtracyjne”
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Uwzględniając „stałe filtracyjne” ogólne równanie filtracji pod stałym ciśnieniem przyjmuje postać:
tKCVV 22
Podaje ono zależność objętości uzyskanegoprzesączu od czasu podczas filtracji pod stałym ciśnieniem.
wierzchołek paraboli
szybkość chwilowa filtracji
CVK
dtdV
2
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
CVK
dtdV
2
Równanie to wskazuje, że w miarę wzrostu objętości przesączu V maleje prędkośćfiltracji. W momencie początkowym V=0 prędkość filtracji jest maksymalna i uwarunkowana tylko oporem tkaniny filtracyjnej.
CK
dtdV
MAX
2
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Wartości stałych K i C określa się na filtrze o określonej powierzchni filtracyjnej F.Przy zmianie powierzchni filtracyjnej na inną wielkość np.. F1 i zachowaniu innych parametrów prowadzenia procesu wynikną inne wartości stałych stosownie do definicji:
2
11
FF
KK
FF
CC 11
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Przy zmianie ciśnienia do wartości ciśnienia do wartości ΔΔPP11 wówczas nowe stałe filtracyjne wyniosą:
s
PP
KK
1
11
s
PP
CC
11
Stąd też pomiar filtracji pod kilkoma ciśnieniami pozwala określić współczynnikściśliwości s.
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Zmiana temperatury prowadzenia procesu wpłynie na wartość lepkości przesączu. Nowa stała filtracyjna wyniesie:
11
KK
CC 1
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Filtracja ze stałą szybkością :
Stosując pompę o odpowiedniej charakterystyce, można uzyskać stała szybkość filtracjiV/t. W miarę narastania osadu, a więc wzrostu oporu filtracyjnego, ciśnienie ΔP musirosnąć.
tws
FV
CPa
PdtF
dV
załóżmy że const
tV
dtdV
tV
Ft
tV
FPaC
P ts
w 2
2
tV
Ft
tV
FaC
P tw 2
2
dla osadównieściśliwych s=0
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Filtracja dwustopniowa :
Podczas filtracji pod stałym ciśnieniem szybkość jej na początku jest bardzo dużawskutek braku osadu na tkaninie. Może to spowodować utrudnienia tworzenia sięosadu a w konsekwencji mętny przesącz. W przypadku osadu niejednorodnegomałe ziarna mogą zatykać pory między ziarnami dużymi tworząc osad nieprzepuszczalny, co szybko hamuje proces.
Aby uniknąć tych ujemnych skutków, stosuje się proces dwustopniowy : początkowoprowadzi się filtrację z umiarkowaną szybkością, której towarzyszy wzrost ciśnienia.Gdy ciśnienie to osiągnie wartość pożądaną, proces prowadzony jest pod stałym ciśnieniem.
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Proces dwustopniowy:
stała szybkość
stałe ciśnienie
W ostatnim momencie pierwszegookresu szybkość (V/t) jest równaszybkości początkowego momentuokresu drugiego
CVK
tV
11 2
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Znając wartości „stałych filtracyjnych” K i C dla wybranego ciśnienia ΔP oraz znającprędkość pierwszego okresu (V/t)1 możemy znaleźć objętość przesączu V1 otrzymanegow pierwszym okresie.
C
tVK
V
1
1
2
stosownie do wykresu :
1
1
1 tV
tV
a stąd możemy wyznaczyć czas trwania
pierwszego okresu filtracji:
1
2
1
1
2
tVC
tV
Kt
CVK
tV
11 2
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Równanie tKCVV 22 nie może być stosowane dla II okresu filtracji
gdyż było ono wyprowadzone przez scałkowanie równania na szybkość filtracji od stanu początkowego t = 0 V = 0. Obecnie stan początkowy charakteryzowany jest parametrami t1 i V1
CVK
dtdV
2
Całkując równanie prędkości filtracji od tej granicy otrzymamy:
t
t
V
V
dtK
dVCV11
2
Stąd równanie dla drugiego okresu filtracji przyjmuje postać:
1121
2 2 ttKVVCVV
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Zwykle dwustopniowość filtracji osiąga się przez zastosowanie pompy o odpowiedniejcharakterystyce:
Charakterystykę można przybliżyćdwoma prostymi:
Początkowo pompa pracuje dającmałe ciśnienie ale stałą wydajność
Następnie ciśnienie wzrasta i ustala sięmimo spadku prędkości filtracji
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Wydajność cyklu filtracyjnego :
Aparaty filtracyjne pracują najczęściej okresowo. Po pewnym czasie filtracji ma miejsceokres postoju τ0 niezbędny dla przemycia osadu usunięcia go i przygotowania aparatudo nowego cyklu. W ciągu jednego cyklu otrzymuje się objętość V przesączu. Stądwydajność na przeciętną jednostkę czasu pracy aparatu wynosi:
0
V
czas filtracji
Czas przestoju jest stały a więc wydajność aparatu na jednostkę czasu zależy od czasufiltracji. Należy tak dobrać czas pracy aby otrzymać maksimum wydajności.
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Zastosujemy graficzną metodę rozwiązania problemu:
Musimy dysponowaćkrzywą zależności V od t.
Odkładamy punkt S na osi czasu w odległości τ0
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Jeżeli punkt A oznacza stan końcowy procesu, wówczas nachylenie promienia SAoznacza średnią wydajność procesu
0
V
τ0 + τA
VDla innych stanów końcowychotrzymamy inne wydajności
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Im większe nachylenie tym większa wydajność. Największą wydajność otrzymujemygdy z punktu S poprowadzimy styczną do krzywej V(t) punkt B
Punkt styczności B dajeoptymalny czas trwaniaprocesu
Dla krótszych czasówotrzymujemy mniejszą wydajność naskutek wpływu zbyt długiego czasuprzestoju. Dla dłuższych czasówwydajność będzie niska wskutekmałej szybkości filtracji w końcowymokresie procesu.
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Maksymalna wydajność procesu η jest równa szybkości ostatniego momentu filtracjiprowadzonej przez okres optymalny :
CVKV
20
Rozwiązując to równanie razem z równaniem
1121
2 2 ttKVVCVV można czas optymalny wyznaczyć analitycznie.
Można wykazać, że dla C = 0 (znikomy opór tkaniny filtracyjnej) optymalny czas trwania filtracji dwustopniowej jest równy sumie τ0 + τ1 czyli że czas trwania drugiego okresu powinien być równy czasowi przestoju.
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Filtracja w wirówce :
Duża siła bezwładności wytworzona w wirówce może być przydatna do odfiltrowaniacieczy ze stężonych zawiesin. W tych bowiem przypadkach zwykła filtracja jest na ogółnieopłacalna, bowiem wskutek zbyt szybkiego zapełniania aparatu osadem zbyt częstebyły by przestoje i za wielka cześć cieczy pozostała by w osadzie.
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Ciśnienie wytworzone w płynie działaniem siły bezwładności można obliczyćrozpatrując różniczkową masę cieczy dm w postaci pierścienia o grubości dr, promieniu r i prędkości obwodowej u.
Na różniczkową masę dmdziała siła bezwładnościdS:
rudm
dS2
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
masa pierścienia różniczkowego wynosi:
drFdm powierzchnia tworząca walca
prędkość obwodowa: nru 2
Możemy więc obliczyć stosunek dS / F czyli różniczkę ciśnienia cieczy:
drrndPFdS 22
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Całkując to wyrażenie w granicach zasięgu cieczy w wirówce, od rL do R:
R
r
P
P L
drrndP 222
1
2222 LrRnP
całkowite ciśnienie pod którym przebiegaproces filtracji.
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Przesącz przepływa przez różniczkowy pierścień osadu o grubości dr z prędkościąpozorną Ur. (kierunek promieniowy). Stosownie do wyrażenia dla przepuszczalności:
drdPK
U r
Powierzchnię tworzącą F rozpatrywanej warstwy osadu wyraża iloczyn:
hrF 2wysokość bębna wirówki
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Stąd natężenie objętościowe przepływu V przesączu przez osad wyniesie:
hrUFUV rr 2
drdPK
U r
porównując z wyrażeniem
otrzymujemy:rdr
KhV
dP
2
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
R
r
P
P srdr
KhV
dP
2
2
1
Całkując je w granicach grubości osadu od rs do R
srR
KhV
P ln2
2222 LrRnP
Wcześniej wyprowadziliśmy zależność na spadek ciśnienia:
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Porównując te dwa wyrażenia otrzymujemy:
sL r
RKh
VrRn ln
22 222
s
L
rR
rRnK
hV
ln
4 222
3
Natężenie objętościowe filtracji:
Inżynieria Chemiczna i Procesowa
Wykład nr 7 : Procesy mechaniczne. Filtracja
Natężenie objętościowe filtracji V jest zatem zależne od zapełnienie wirówki mierzonej stosunkiem rL / R . Równanie to jest aktualne dla dla rL < rs czyli gdyosad jest pokryty cieczą. Jeżeli natomiast jest rL >= rs wtedy równanie przybierapostać:
L
L
rR
rRnK
hV
ln
4 222
3
Należy pamiętać że szybkość filtracji dla osadów ściśliwych nie jest ściśle proporcjonalnado n2 gdyż wskutek ściśliwości osadu jego przepuszczalność K też zależy od liczbyobrotów.
tylko zalana przez ciecz warstwa osadu bierze udział w procesie